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Si è detto nel capitolo precedente che il
BJT è un dispositivo adoperato per l’amplificazione di segnali. A questo scopo è stato necessario costruirgli attorno una rete, detta
di
polarizzazione,
in modo da predisporlo allo scopo. In questo modo esso è pronto a ricevere il segnale da
amplificare. In che modo riuscirà a farlo lo vedremo nel prossimo capitolo.
Abbiamo anche visto come si fa a progettare la rete di polarizzazione
in modo da far lavorare il BJT nel p.d.l. desiderato.
E’ assolutamente indispensabile che durante il lavoro di
amplificazione del BJT, tale p.d.l. resti invariato.
In altri termini è indispensabile che tanto la corrente IC quanto la tensione VCE restino invariate durante
il funzionamento dell’amplificatore.
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Invece esistono diverse cause che tendono a far variare il p.d.l.:
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L’invecchiamento dei componenti
che porta, col tempo, a
un’alterazione dei parametri caratteristici del BJT, in particolar modo dell’hFE. Questo porta ad una variazione di IC e quindi
del p.d.l.
La variazione della temperatura di lavoro del BJT. Un aumento
della temperatura del BJT agisce su tre elementi: hFE, ICBO e VBE i quali portano tutti e tre ad un aumento
della corrente di collettore IC.
In particolar modo:
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hFE
aumenta di 0,5¸ 1%
per ogni °C di aumento della temperatura.
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ICBO
raddoppia ogni 10 °C di aumento della
temperatura nei BJT al Silicio e ogni 15 °C in quelli al Germanio
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VBE
diminuisce di 2,5 mV ogni °C di aumento della
temperatura
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Tutte e tre queste variazioni contribuiscono al raggiungimento di uno
stesso risultato: un aumento della corrente di collettore IC. Infatti, considerando il circuito di polarizzazione del BJT. |
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Si
ricordi l’equazione fondamentale dei transistor:

che, sostituendo al posto di IB il valore che si
ricava dal circuito accanto: ,
diventa:

da cui si vede chiaramente che tutte e tre la variazioni di cui sopra
portano ad un aumento di IC.
Ora, un aumento della IC porterà ad un ulteriore
aumento della temperatura che porterà ancora IC ad aumentare e
così via, spingendo il p.d.l. verso la zona di saturazione dando luogo al fenomeno detto
della deriva
termica del transistor.
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